Â÷ºÐÇÑ ¼ö¾÷ÀÌ ¾ÆÁÖ ¸¶À½¿¡ µé¾ú½À´Ï´Ù.
Çٽɸ¸ °Á¶ÇϽø鼵µ ´Ü¼ø ¾Ï±â½ÄÀÌ ¾Æ´Ñ ÀüüÀûÀÎ È帧À» µû¶ó ¼ö¾÷Çϼż ÀÌÇØÇϱⰡ ÁÁ¾Ò½À´Ï´Ù.
ÀÌ°ø°è ÇлýÀ̶ó ÃʹݺΠ³»¿ë(¹ÝµµÃ¼ÀÇ Á¤ÀÇ, ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷) Àº Àͼ÷Çؼ ±¦Âú¾ÒÁö¸¸ ¾ÕÀ¸·Î ¸ð¸£´Â ³»¿ëµµ ¼±»ý´Ô ¼ö¾÷
Âø½ÇÈ÷ µû¶ó°¡º¸µµ·Ï ÇÏ°Ú½À´Ï´Ù.
Ãß°¡·Î, ¼ö¾÷ ¸¶Áö¸·¿¡ self assessment°¡ ÀÖ¾î¼ ¹è¿î ³»¿ëÀ» º¹±âÇغ¸°í ³ª¸§ÀÇ ¸éÁ¢ ´ëºñµµ ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Á¡ÀÌ ¸¸Á·½º
·´½À´Ï´Ù. °¨»çÇÕ´Ï´Ù!
+) self assessment·Î ÀÛ¼ºÇغ» ´äº¯ÀÔ´Ï´Ù.
1. ¹ÝµµÃ¼ÀÇ Á¤ÀÇ
-¹ÝµµÃ¼´Â Àü±â°¡ ÅëÇÏ´Â µµÃ¼, Àü±â°¡ ÅëÇÏÁö ¾Ê´Â ºÎµµÃ¼¿Í ´Þ¸® Àü±âÀû Ư¼ºÀ» Á¦¾îÇÒ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.
Ư¼öÇÑ »óȲ¿¡ µû¶ó Àü±âÀüµµµµ°¡ ´Þ¶óÁö´Âµ¥, ±× ¿¹·Î´Â ¿Âµµ¸¦ Á¶ÀÛÇϰųª ºÒ¼ø¹°À» ÷°¡ÇÏ´Â ¹æ½ÄÀÌ ÀÖ½À´Ï´Ù.
2. ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ
-»ê¾÷ value chain¿¡ µû¶ó ¼³°è, »ý»ê, ÆÐŰ¡°ú Å×½ºÆ®·Î ºÐ·ùÇÒ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. ÁýÁßÀûÀ¸·Î ¹«¾ùÀ» ´ã´çÇÏ´À³Ä¿¡ µû¶ó ±â
¾÷µµ ´Þ¶óÁö´Âµ¥, ¼³°è¸¸ ÇÏ´Â ÆÕ¸®½º(fabless), »ý»êÀ» ´ã´çÇÏ´Â ÆÄ¿îµå¸®(foundry), ÆÐŰ¡°ú Å×½ºÆ®¸¦ ÇÏ´Â ±â¾÷, ±×¸®
°í ÀÌ ¸ðµç °øÁ¤À» ÇÏ´Â IDM(Integrated Device Manufacturer)ÀÌ ÀÖ½À´Ï´Ù.
¹ÝµµÃ¼´Â Å©°Ô ¸Þ¸ð¸® ¹ÝµµÃ¼¿Í ºñ¸Þ¸ð¸®(½Ã½ºÅÛ) ¹ÝµµÃ¼·Î ³ª´ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. ¸Þ¸ð¸® ¹ÝµµÃ¼´Â ¿ì¼öÇÑ ±â¼ú·ÂÀ» ¹ÙÅÁ
À¸·Î ¼ÒÇ°Á¾À» ´Ù·®»ý»êÇϱ⠶§¹®¿¡ ¿ì¼öÇÑ »ý»ê·ÂÀÌ °®ÃçÁø IDMÀÇ Áַ»óÇ°ÀÔ´Ï´Ù. ÆÕ¸®½º´Â Àη°ú ¿¬±¸¸¦ ¹ÙÅÁÀ¸
·Î ´Ù¾çÇÑ Á¦Ç°(½Ã½ºÅÛ ¹ÝµµÃ¼)À» À§Å¹»ç¿¡ ¸Ã±â±â ¶§¹®¿¡ ÆÄ¿îµå¸®´Â »ó´ëÀûÀ¸·Î ´ÙÇ°Á¾ ¼Ò·®»ý»êÀ» ÇÕ´Ï´Ù.
3. ¹ÝµµÃ¼ÀÇ 8´ë°øÁ¤¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
¹ÝµµÃ¼ÀÇ °øÁ¤Àº Å©°Ô 8°¡Áö ´Ü°è·Î ³ª´ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. ¸ÕÀú, À×°÷À» ÀÌ¿ëÇØ 1) ¿þÀÌÆÛ¸¦ Á¦Á¶ÇÕ´Ï´Ù. 2) »êȹÝÀÀÀ¸·Î
¹Ú¸·À» Çü¼ºÇÕ´Ï´Ù. 3) Æ÷Å丮¼Ò±×·¡ÇÇ´Â ¼³°èÇسõÀº´ë·Î ¿þÀÌÆÛ À§¿¡ ¿øÇÏ´Â ÆÐÅÏÀ» »õ±â´Â °úÁ¤ÀÔ´Ï´Ù. 4) ½Ä°¢°øÁ¤
(etching)À¸·Î ±âÆÇ À§¿¡ ºÒÇÊ¿äÇÑ ºÎºÐÀ» Á¦°ÅÇÕ´Ï´Ù. 5) ¹Ú¸·À» ÁõÂø(deposition) ½ÃÅ°°í ºÒ¼ø¹°À» ÁÖÀÔÇÕ´Ï´Ù. 6) ȸ·Î
ÆÐÅÏÀ» µû¶ó Àü±â ¹è¼±ÇÕ´Ï´Ù.7) EDS test °úÁ¤À» ÅëÇØ ¾çÇ°°ú ºÒ·®Ç°À» ºÐ¸®ÇÕ´Ï´Ù. 8) ¸¶¹«¸® ÆÐŰ¡ ÀÛ¾÷À» ÇÕ´Ï´Ù.
Ãß°¡ÀûÀ¸·Î, °øÁ¤ »çÀÌ»çÀÌ CMP ÀÛ¾÷À» ÅëÇØ ¿þÀÌÆÛ¸¦ ¸Å²ô·´°Ô ¸¸µå´Â ÀÛ¾÷À» ÇÕ´Ï´Ù.